以质子、氦、氧等多种离子束为载体的研究正式启动

 

高丽大学世宗校区（副校长 梁志雲）已在加速器ICT融合馆建设并运行自主开发的中子加速器离子源。目前，该装置可产生质子、氦、氧、氩、氮等多种离子束，广泛应用于物性研究、半导体、 电池材料及生物等多个领域的科研工作。

 

该离子源配备了基于14GHz电子回旋共振（ECR）的束流照射设施，并自主建设了真空装置、冷却装置、高频装置、束流诊断装置、控制系统及互锁系统等主要加速器基础设施。

 

高丽大学世宗校区加速器科学系教授金恩山（音）表示：“我们不仅开展离子源研究和专业人才培养，也在同步进行束流应用研究。”他还指出，“未来，设施扩建的目标是提供更高水平的金属离子束输出。”

 

韩国基础科学支援研究院（KBSI）李炳燮（音）博士在去年夏天作为高丽大学加速器现场实习讲师参与了研究，利用离子源设施开展表面改性实验。他表示：“我们在SiO₂基板中注入氮离子，以量化实验条件，并通过多价离子注入探索与以往单一离子注入不同的物理机制。”他还解释道：“氮离子在绝缘膜氮化、等离子体耐受性提升以及折射率控制等方面具有多种应用潜力，因此可以拓展研究范围。”

 

高丽大学世宗校区半导体物理学部教授郑炳浩（音）表示：“我们利用质子束在硅半导体薄膜上诱导传统光刻工艺难以实现的表面改性效果，并将其应用于纳米电子器件和纳米光学器件的研究中。”

 

与此同时，高丽大学世宗校区不仅开发了磁场测量装置、高频装置和束流诊断装置，还与国外研究所及企业合作开展超导加速管和束流测试等工作。通过这一过程，学校致力于加速器人才培养和技术积累，预计也将为放射光加速器和中子加速器等国家大型科研设施的开发与运行作出贡献。

 

高丽大学世宗校区的离子源经过近年来的设备扩建和升级，目前已作为研究设施投入运行，供束流实验人员进行实际科研使用。

 

高丽大学世宗校区宣传集资部

翻译：赵炫怡